0 نفر در حال مشاهده این محصول هستند!

ژل ماسک صورت کلاژن و هیالورونیک اسید R20 اوتینووکس

  • آبرسانی عمیق و پایدار
  • بازسازی کلاژن و الاستین
  • بافت نیمه‌ژلی سبک و تنفس‌پذیر
  • افزایش شادابی، نرمی و استحکام پوست

قیمت محصول

تومان 4.500.000

برای دریافت مشاوره با ما در ارتباط باشید.

توضیحات محصول

این ژل ماسک صورت کلاژن و هیالورونیک اسید فرمولاسیون بیومیمتیک و رطوبت‌دوست پیشرفته‌ای دارد. این محصول هم‌زمان سه محور کلیدی سلامت پوست را هدف قرار می‌دهد: آبرسانی عمقی، بازسازی ماتریکس خارج‌سلولی و تسکین التهابات پوستی.

طراحی بیومیمتیک آن به‌طور هوشمند مکانیسم‌های طبیعی پوست را تقلید می‌کند. ساختار نیمه‌ژلی محصول لایه‌ای هیدروفیل و تنفس‌پذیر روی پوست می‌سازد. این لایه تبادل رطوبت را تسهیل می‌کند، از انسداد منافذ جلوگیری می‌نماید و بستری مناسب برای نفوذ کنترل‌شده ترکیبات فعال به لایه‌های عمیق‌تر فراهم می‌آورد.

مکانیسم عمل در سطح سلولی و بافتی

این ماسک در سطح سلولی سنتز کلاژن نوع I و III و الاستین را افزایش می‌دهد. همچنین تعادل بین فعالیت فیبروبلاست‌ها و ماتریکس متالوپروتئینازها (MMPs) را تنظیم می‌کند. در نتیجه شبکه حمایتی بافت همبند تقویت می‌شود.

MMPs آنزیم‌هایی هستند که کلاژن و الاستین آسیب‌دیده را تجزیه می‌کنند. افزایش بیش از حد آن‌ها ماتریکس خارج‌سلولی (ECM) را تخریب کرده و استحکام پوست را کاهش می‌دهد. این فرمول با ایجاد تعادل مطلوب از تخریب بیش از حد جلوگیری می‌نماید.

هم‌زمان نئوژنسیس (تشکیل بافت جدید) را تحریک کرده و بازسازی ساختاری ECM را تسریع می‌بخشد. نتیجه این فرآیند جوان‌سازی عملکردی پوست است. کشسانی بهبود یافته و استحکام بافت افزایش پیدا می‌کند.

ترکیبات با وزن مولکولی پایین و ظرفیت بالای اتصال به آب، شبکه‌های هیدروژلی بین‌سلولی تشکیل می‌دهند. این شبکه‌ها جذب و نگهداری پایدار رطوبت را در اپیدرم و درم تضمین می‌کنند. آن‌ها مانند مخازن رطوبتی عمل کرده، فشار اسمزی درماتولوژیک را تنظیم نموده و از دهیدراتاسیون سلولی و کاهش حجم سلول‌ها جلوگیری می‌کنند. حفظ حجم و تورژور سلولی ظاهر پوست را پرتر و صاف‌تر نشان می‌دهد. این کار شادابی پوست را افزایش داده و خطوط ناشی از خشکی را کاهش می‌دهد.

در فاز ترمیمی، ترکیبات متابولیکی تولید کوآنزیم‌های حیاتی و مولکول‌های ATP را افزایش می‌دهند. این ترکیبات انرژی مورد نیاز کراتینوسیت‌ها و فیبروبلاست‌ها را تأمین می‌کنند. فعالیت متابولیک این سلول‌ها بهینه شده و سرعت بازسازی بافتی بالا می‌رود. این فرآیند استرس اکسیداتیو و سلولی را کاهش داده، پاسخ‌های التهابی موضعی را تنظیم می‌کند و به تسکین فوری پوست کمک می‌نماید. کاهش التهاب احساس آرامش و خنکی ایجاد کرده و محیط مناسبی برای ترمیم بدون تحریک فراهم می‌آورد.

نتایج و مزایای کلیدی

این ماسک ژلی با مکانیسم‌های هم‌افزای آبرسانی عمقی، بازسازی ماتریکس و ضدالتهاب عمل می‌کند. در نتیجه نرمی، شفافیت، استحکام و یکنواختی پوست افزایش می‌یابد. پوست پس از استفاده لطیف‌تر و هیدراته‌تر به نظر می‌رسد و درخشش طبیعی آن بیشتر می‌شود.

استفاده منظم تعادل فیزیولوژیک پوست را بازمی‌گرداند. همچنین سد محافظتی را تقویت می‌کند، ظاهر خطوط ریز را کاهش می‌دهد و ظاهری جوان‌تر و سالم‌تر به پوست می‌بخشد. این محصول برای پوست‌های کم‌آب، خسته یا مستعد التهاب مناسب است. پوست‌هایی که پس از درمان‌های زیبایی نیاز به بازسازی دارند نیز از آن سود می‌برند.

روش استفاده استاندارد

پس از شستشوی صورت با پاک‌کننده‌ای ملایم، پوست را کاملاً خشک کنید. مقدار مناسبی از ژل ماسک را به‌صورت یکنواخت روی پوست تمیز صورت و گردن بمالید. از تماس با ناحیه اطراف چشم و لب خودداری کنید.

اجازه دهید ۱۰ تا ۱۵ دقیقه روی پوست بماند تا مواد فعال جذب شده و لایه هیدروژلی اثر خود را بگذارد. سپس با آب ولرم به‌آرامی شستشو دهید یا در صورت تمایل با دستمال مرطوب لطیف پاک کنید.

بلافاصله پس از ماسک از یک سرم مناسب (مانند سرم آبرسان یا ترمیم‌کننده) استفاده کنید. سپس مرطوب‌کننده سازگار با نوع پوست خود را به کار ببرید. این کار جذب مواد فعال و حفظ رطوبت را به حداکثر می‌رساند.

این ژل ماسک با ترکیب هوشمند آبرسانی، بازسازی ساختاری و تسکین، ابزاری مؤثر برای بازگرداندن تعادل و شادابی طبیعی پوست است. در روتین‌های مراقبت روزانه یا هفتگی کاربرد دارد.

اطلاعات محصول

برند

حجم

۵۰۰ میلی لیتر

نوع ماسک

ژل ماسک

کاربرد

آبرسانی، بازسازی و تسکین پوست

مناسب برای

پوست کم آب، خشک و خسته

ناحیه استفاده

صورت و گردن

مناسب استفاده

خانگی و حرفه‌ای

توضیحات محصول

دیدگاهها

هیچ دیدگاهی برای این محصول نوشته نشده است.

اولین نفری باشید که دیدگاهی را ارسال می کنید برای “ژل ماسک صورت کلاژن و هیالورونیک اسید R20 اوتینووکس”

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *