0 نفر در حال مشاهده این محصول هستند!

بالم پاک کننده کلاژن و الاستین R02 – اوتینووکس

  • پاک‌سازی عمیق آلودگی و آرایش ضدآب
  • خاصیت آنتی‌اکسیدانی و ضدالتهابی
  • مناسب پوست‌های دهیدراته و دارای علائم پیری
  • افزایش رطوبت و کاهش خشکی پس از پاکسازی

قیمت محصول

تومان 3.500.000

برای دریافت مشاوره با ما در ارتباط باشید.

توضیحات محصول

بالم پاک‌کننده کلاژن و الاستین اوتینووکس با فرمولاسیون چندفازی لیپیدی طراحی شده تا آلودگی‌ها و مواد چربی‌دوست را به‌طور مؤثر حل کند و هم‌زمان یکپارچگی سد هیدرولپیدی پوست را حفظ نماید. این محصول با قرار گرفتن در معرض حرارت پوست، از حالت جامد به فاز روغنی روان تبدیل می‌شود و قدرت بالایی در حل کردن آرایش، سبوم و ناخالصی‌های لیپوفیلیک پیدا می‌کند.

مکانیسم عملکرد بالم پاک‌کننده کلاژن و الاستین اوتینووکس

ساختار ترموستنیو این فرمولاسیون باعث می‌شود کریستال‌های لیپیدی در تماس با دمای پوست به‌صورت کنترل‌شده ذوب شوند. این تغییر فاز که به نام PHASE TRANSITION شناخته می‌شود، بالم را به روغن روان تبدیل کرده و قدرت حل‌کنندگی آن را افزایش می‌دهد. مولکول‌های لیپیدی فعال با نفوذ بین مولکولی، نیروهای واندروالسی بین آلودگی‌ها و سطح پوست را کاهش داده و ناخالصی‌های چربی‌دوست را در قالب مایسل‌های معکوس درون فاز روغنی حل می‌کنند. به این ترتیب، آرایش و آلودگی‌های مقاوم نیز به‌راحتی از پوست جدا می‌شوند.

پس از حل شدن آلودگی‌ها، تماس بالم با آب یا رطوبت پوست فرآیند SELF-EMULSIFICATION را فعال می‌کند. این فرآیند فاز روغنی را به ساختار امولسیونی تبدیل کرده و ناخالصی‌های حل‌شده را معلق می‌سازد تا هنگام پاک کردن یا شست‌وشو به‌آسانی از سطح پوست خارج شوند.

حمایت از سد هیدرولپیدی و حفظ رطوبت

این بالم علاوه بر پاکسازی عمیق، به تعادل لیپیدی پوست نیز کمک می‌کند. ترکیبات فاز چربی با افزایش انعطاف ماتریکس بین‌سلولی و حمایت از فعالیت ترمیمی فیبروبلاست‌ها، در بازسازی ساختار پوست نقش دارند. همچنین با بهبود چینش لایه‌های لاملار در استراتوم کورنئوم و تقویت چسبندگی لیپیدی، عملکرد سد دفاعی پوست را ارتقا می‌دهد. نتیجه این فرآیند، افزایش ظرفیت نگهداری رطوبت و کاهش خشکی پس از پاکسازی است.

خواص آنتی‌اکسیدانی و ضدالتهابی

ترکیبات فعال موجود در بالم با مهار تولید رادیکال‌های آزاد و تنظیم مسیرهای سیگنال‌دهی التهابی، از سلول‌ها در برابر استرس اکسیداتیو محافظت می‌کنند. این عملکرد به حفظ یکپارچگی غشای سلولی کمک کرده و احتمال بروز قرمزی و تحریک پوست پس از پاکسازی را کاهش می‌دهد.

مزایای بالم پاک‌کننده کلاژن و الاستین اوتینووکس

پاکسازی عمیق آلودگی‌ها و ناخالصی‌های چربی‌دوست

حل کردن انواع آرایش، از جمله آرایش ضدآب

کمک به حذف سبوم و چربی‌های اضافی

تبدیل شدن به فاز روغنی روان در تماس با دمای پوست

ایجاد امولسیون خودبه‌خودی هنگام تماس با آب

حفظ تعادل لیپیدی پوست

حمایت از سد دفاعی و هیدرولپیدی

افزایش ظرفیت نگهداری رطوبت

پشتیبانی از فرآیندهای ترمیمی پوست

عملکرد آنتی‌اکسیدانی و ضدالتهابی

کاهش قرمزی و تحریک پس از پاکسازی

روش استفاده

مقدار مناسبی از بالم پاک‌کننده کلاژن و الاستین اوتینووکس را روی پوست خشک صورت بمالید. با نوک انگشتان به‌آرامی ماساژ دهید تا در اثر حرارت پوست ذوب شود و آرایش و آلودگی‌ها را در خود حل کند. سپس پوست را با پد یا دستمال مرطوب پاک کنید یا با آب ولرم بشویید. برای پاکسازی کامل‌تر، ابتدا از این بالم برای حل کردن چربی و آرایش استفاده کرده و سپس ژل پاک‌کننده آبرسان را به کار ببرید تا باقی‌مانده ناخالصی‌ها حذف و پوست آماده مراحل بعدی شود.

مناسب برای چه پوست‌هایی؟

این بالم برای انواع پوست قابل استفاده است و به‌ویژه برای پوست‌های دهیدراته و پوست‌هایی که علائم اولیه پیری دارند مناسب محسوب می‌شود. افراد دارای پوست چرب تا مختلط بهتر است مصرف آن را با احتیاط انجام دهند.

بالم پاک‌کننده کلاژن و الاستین اوتینووکس پاکسازی عمیق را با حمایت از سد هیدرولپیدی پوست ترکیب می‌کند. ساختار چندفازی لیپیدی آن آرایش و آلودگی‌های چربی‌دوست را حل کرده و فرآیند امولسیون خودبه‌خودی، جدا شدن این ناخالصی‌ها را تسهیل می‌سازد. این محصول علاوه بر پاکسازی، به حفظ رطوبت، تعادل لیپیدی و عملکرد دفاعی پوست کمک می‌کند و می‌تواند به‌عنوان مرحله نخست یک روتین پاکسازی عمیق مورد استفاده قرار گیرد.

اطلاعات محصول

برند

حجم

۵۰۰ میلی لیتر

نوع محصول

بالم پاک‌کننده

ناحیه استفاده

پوست صورت

کاربرد

پاکسازی آرایش، سبوم و آلودگی‌های پوست

مناسب برای

انواع پوست

توضیحات محصول

دیدگاهها

هیچ دیدگاهی برای این محصول نوشته نشده است.

اولین نفری باشید که دیدگاهی را ارسال می کنید برای “بالم پاک کننده کلاژن و الاستین R02 – اوتینووکس”

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *